|
À缺¿£Áö´Ï¾î¸µÀº
¹ÝµµÃ¼, ÈÇÐ, ¹°¸®ÇÐ, ¼ÒÀç ¹× MEMS ºÐ¾ß¿¡¼ ¿ä±¸µÇ´Â
¼Ö·ù¼Ç°ú ÀåÄ¡¸¦
Á¦°øÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ´Ù¾çÇÑ ºÐ¾ß¿¡ °ÉÄ£
Lithography ¿ë Á¦Á¶ ¹× ½ÇÇè ÀåÄ¡ÀÇ Á¦°øÀº anti-reflective
coating, °¢Á¾ Æú¸®¸Ó, photoresist ¹× Àüµµ¼º Çʸ§ÀÇ Àû¿ë
ºÐ¾ß¸¦ ´Ù¾çÇÏ°í ¿Ïº®ÇÏ°Ô ¼öÇàÇÒ ¼ö ÀÖ´Â
ȯ°æÀ» Á¦°øÇÕ´Ï´Ù.
|