À缺¿£Áö´Ï¾î¸µÀº
¹ÝµµÃ¼, ÈÇÐ, ¹°¸®ÇÐ, ¼ÒÀç ¹× MEMS ºÐ¾ß¿¡¼ ¿ä±¸µÇ´Â
¼Ö·ù¼Ç°ú ÀåÄ¡¸¦
Á¦°øÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ´Ù¾çÇÑ ºÐ¾ß¿¡ °ÉÄ£
Lithography ¿ë Á¦Á¶ ¹× ½ÇÇè ÀåÄ¡ÀÇ Á¦°øÀº anti-reflective
coating, °¢Á¾ Æú¸®¸Ó, photoresist ¹× Àüµµ¼º Çʸ§ÀÇ Àû¿ë
ºÐ¾ß¸¦ ´Ù¾çÇÏ°í ¿Ïº®ÇÏ°Ô ¼öÇàÇÒ ¼ö ÀÖ´Â
ȯ°æÀ» Á¦°øÇÕ´Ï´Ù.
À缺¿£Áö´Ï¾î¸µÀº
Á¦Ç°°³¹ßÀÇ Ãʱâ´Ü°è¿¡¼ºÎÅÍ °í°´°ú Çù·ÂÇÏ¿©, ¸ñÇ¥¿¡
ºÎÇÕÇÏ´Â »õ·Î¿î °¡Ä¡¸¦
âÁ¶ÇÏ°í ºÎ°¡°¡Ä¡¸¦ âÃâÇϴµ¥
±â¿©ÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.
À缺¿£Áö´Ï¾î¸µÀÌ
Á¦°øÇÏ´Â ¸ðµç ÀåÄ¡¿¡ ´ëÇÑ °øÁ¤ ³ëÇÏ¿ì¿Í ¼÷·ÃµÈ ±â¼ú ÀηÂÀº
°í°´ÀÌ ¿ä±¸ÇÏ´Â
¸ñÇ¥¸¦ ¸¸Á·½Ãų °ÍÀÔ´Ï´Ù.
|